公司聚焦半导体光刻与微纳曝光设备全链条业务，依托自研自产能力与全国化服务网络，实现稳健营收与持续交付，在AR、MEMS等细分赛道市占率领先，盈利能力与品牌影响力持续提升。
江苏海思半导体科技有限公司总部位于苏州，深耕半导体光刻及微纳曝光设备研发、生产与销售。公司拥有千级无尘车间与标准化厂房，具备从6寸至12寸及以上全尺寸、接触式至投影式全工艺光刻机的量产与定制能力。凭借多年专项技术积淀，公司在AR、MEMS、功率器件等细分领域稳居头部，产品已批量交付超200台，服务众多行业龙头与科研院所，致力于为客户提供高性价比、高稳定性的国产光刻设备与全周期技术服务。
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集齐接触、接近、投影、无掩模等全工艺机型，覆盖4至12寸全尺寸晶圆，实现一站式产线配齐，客户外协采购成本降低30%。
自研对位算法加持，双面对准精度≤0.5μm，较同价位国产同行提升150%，12寸机型精度对标中端进口设备，满足高精度制程。
整机售价较进口同款低50%，核心部件自给率超行业均值40%，后期年维保费仅为进口设备三分之一，大幅降低全生命周期成本。
依托自有产线与现货储备，标准机型90天、定制机型120天交付，较行业平均时效提速100%，精准匹配客户产线快速投产节点。
突破标准机改制瓶颈，支持掩膜规格、紫外波段及自动化程度专项定制，适配科研与特种场景，年均定制改机超20台且通过率100%。
立足江苏辐射全国服务网点，省内24小时、省外48小时应急到场，配套免费工艺调试与上机培训，售后响应效率全面优于行业均值。